優秀ポスター賞

2023年12月12日2023年12月20日 colloid

界面化学化学研究室の中筋　渉(M1）さんが、表面技術協会第25回　関西表面技術フォーラムにおいて優秀ポスター賞を受賞しました。

酸化グラフェン薄膜による界面平滑性に優れた環境調和型無電解銅めっきの開発
(関西大院1、日本触媒2、関西大3) ◎中筋渉1、郷田隼2、川﨑英也3