R. Sakaida, H. Kawasaki*
Self-stacking two-layer conductive films for enhanced oxidation and low electrical resistance from hybrid ink of cobalt/copper
Mater. Lett., 136238(2024)
本研究では、10nm以下のCuナノ粒子とコバルトアミン錯体からなるハイブリッドインクを開発し、優れた導電性（7.8μΩ・cm）と耐酸化性を有するCo-Cu膜の作製を可能にしました。このCo-Cu膜はユニークな積層型の2層構造を焼結過程で自発的に形成し、導電膜中のCuの酸化を効果的に抑制します。このCo-Cu膜は、高温高湿試験（85℃/85％RH、一週間）後の抵抗率の増加はわずか16％でした。更に、前処理なしでガラス基板への強い密着性を示しました。この高伝導かつ耐酸化性を有するCo-Cu膜は、電子用途部品における導電材料としての利用が期待されます。
