早稲田大学の下嶋 敦先生との共著論文がACS Appl. Polym. Mater.に掲載されました。

S. Kodama, Y. Miyamoto, S. Itoh, T. Miyata, H. Wada, K. Kuroda, A. Shimojima*, Self-Healing Lamellar Silsesquioxane Thin Films, ACS Appl. Polym. Mater., 3, 4118-4126 (2021).